無錫尚積半導體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項目驗收公示

根據(jù)《國務(wù)院關(guān)于修改<建設(shè)項目竣工環(huán)境保護管理條例>的決定》（國務(wù)院令第682號），以及環(huán)保部《關(guān)于發(fā)布<建設(shè)項目竣工環(huán)境保護驗收暫行辦法>的公告》（國環(huán)規(guī)環(huán)評[2017]4號），現(xiàn)將無錫尚積半導體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項目竣工環(huán)境保護驗收內(nèi)容公示如下：

項目名稱：新物理氣相沉積設(shè)備、新化學氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項目

地點：無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房

建設(shè)單位：無錫尚積半導體科技有限公司

建設(shè)內(nèi)容：竣工驗收報告，詳見附件

公示時間：2023年10月26日至2023年11月22日

公示期間：對上述公示內(nèi)容如有異議，請以書面形式反饋，個人須加蓋公章。

驗收正文

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