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無錫尚積半導體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項目 |
| 發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司 發(fā)布時間：2/20/2023 5:00:54 PM 點擊次數(shù)：3666 關(guān)閉 |
| 按照《建設(shè)項目環(huán)境影響評價政府信息公開指南》 (試行》中相關(guān)要求，現(xiàn)將該項目環(huán)境影響評價的有關(guān)信息公示如下: 項目名稱: 新物理氣相沉積設(shè)備、新化學氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項目 建設(shè)單位:無錫尚積半導體科技有限公司 建設(shè)地點: 江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房 環(huán)境影響評價機構(gòu):無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司 聯(lián)系電話: 0510-68566079 郵箱: 1xhb668@163.com 公眾提出意見的主要方式: 電話、郵件 公示日期為 2023年2月20日-2月24日 尚積環(huán)評 |
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